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        等离子体系统 当前位置:三期必開一期 > 产品展示

    等离子体化学气相沉积II型

    三期必開一期 www.rjcsz.com 发布时间:2017-11-15  浏览次数:2284

    商品规格:PECVD 等离子体化学气相沉积-II型
    商品简述:等离子体化学气沉积该产品具有固态等离子源、分开式反应气体进气系统,动态衬底温控,各方面控制真空系统,适用于室温至1200℃条件下进行的SiO2、SiNx,、等离子体化学气沉积、 SiONx a-Si薄膜的沉积,同时可实现TEOS源沉积,SiC膜层沉积以及液态或气态源沉积其它材料。

    型  号

    流量控制

    清洗镀膜RF功率

    管径

    最大式样尺寸 in

    加热区

    最高

    温度

    外形尺寸mm

    功率

    重 量

     

     

     

    (外)mm

     

    长度mm

     

     

    Kg(约)

    NBD-PECVD1200-80ITD2Z

    两路质量流量计

    20~200W可调

    Φ60Φ80

    2~3″

    200

    1200℃

    1300

    1260

    820

    AC220V

    4kw

    360

    *可非标定制,欢迎来电垂询!

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